Nanografi

Nanografi NG0ST01AL08 Aluminum (Al) Sputtering Target 99.999% 2" x 0.250"

Rp 4.672.000,00

Obral Habis

Biaya pengiriman dihitung saat checkout.

Quantity 1 piece

Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Aluminum (Al) Sputtering Targets, Purity: 99.999%, Size: 2'', Thickness: 0.250'' dari Nanografi Advanced Materials.

Sputtering target digunakan untuk deposisi lapisan tipis (thin film) pada substrat melalui proses physical vapour deposition (PVD). Material ini umum dipakai dalam riset semikonduktor, sel surya, pelapisan optik, dan pengembangan material fungsional.

Spesifikasi

Material	Aluminum
Simbol	Al
Kemurnian	99.999%
Ukuran	2''
Ketebalan	0.250''
SKU	NG0ST01AL08

Produk ini tersedia melalui sistem pre-order. Hubungi tim AMI Scientific untuk estimasi waktu pengiriman dan penawaran kuantitas besar.

Lihat detail lengkap