Target sputtering aluminium (aluminum sputtering target) dari Nanografi ini berbentuk cakram berukuran 2'' dengan ketebalan 0,250'' dan kemurnian 99,999%. Target ini menjadi sumber material dalam proses deposisi sputter, yaitu atom dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
Deposisi sputter merupakan metode yang dapat diulang dengan hasil konsisten dan dapat ditingkatkan dari proyek riset skala kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Banyaknya parameter proses memberi kendali luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
Aluminium adalah logam putih keperakan yang ringan, lunak, dan ulet, dikenal karena kekuatan, daya tahan, ketahanan korosi, serta konduktivitas termal dan listrik yang tinggi. Logam ini membentuk lapisan oksida yang sangat tipis namun kuat. Mikrostruktur target yang berbutir halus membantu erosi yang merata dan meminimalkan pembentukan partikel selama sputtering.
- Deposisi lapisan tipis aluminium pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis material melalui sputtering, misalnya spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor sangat rendah.
- Pekerjaan riset dan pengembangan yang dapat ditingkatkan ke skala produksi dengan substrat lebih besar.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,999% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01AL08
- Material: Aluminium (Al)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01AL08
—
—