Silica Particles — mencakup partikel silika sintetis berukuran nano hingga mikro, baik dalam bentuk fumed silica murni maupun yang dimodifikasi permukaannya dengan gugus organosilan, siloksan, atau silazan. Golongan ini menawarkan variasi sifat permukaan hidrofilik hingga hidrofobik sesuai jenis perlakuan kimianya.
Silica Particles dipakai sebagai bahan pengisi (filler) pada formulasi cat, perekat, dan elastomer, serta sebagai agen pengental dan anti-caking pada berbagai produk industri. Peneliti material dan formulasi juga memanfaatkan varian hidrofobik seperti yang diberi perlakuan polidimetilsiloksan atau oktiltrimetoksisilan untuk meningkatkan dispersi pada matriks polimer nonpolar.
Contoh produk dalam koleksi ini: TCI I1200 7631-86-9 Silicon(IV) Oxide, AEROSIL(regR) 200, TCI I1201 60842-32-2 A Dichlorodimethylsilane-treated Fumed Silica, AEROSIL(regR) R 972, TCI A3794 139351-18-1 A Dichlorodimethylsilane-treated Fumed Silica, AEROSIL(regR) R 974, TCI I1316 7631-86-9 Silicon(IV) Oxide, AEROSIL(regR) 130, TCI A3793 112153-71-6 A Hexamethyldisilazane-treated Fumed Silica, AEROSIL(regR) R 812, TCI A3791 109944-58-3 A Polydimethylsiloxane-treated Fumed Silica, AEROSIL(regR) R 202, TCI A3792 112153-70-5 A Octyltrimethoxysilane-treated Fumed Silica, AEROSIL(regR) R 805.
Perhatikan jenis perlakuan permukaan (dimetildiklorosilan, heksametildisilazan, oktiltrimetoksisilan) yang menentukan sifat hidrofobik-hidrofilik, serta ukuran partikel dan luas permukaan spesifik sesuai kebutuhan aplikasi. Seluruh produk merupakan produk asli Tokyo Chemical Industry (TCI) Jepang, dengan kemurnian, kemasan, dan kondisi penyimpanan tercantum pada halaman masing-masing item.
Kategori lain yang sejajar di bawah Organic/Inorganic Particles, sering dipakai bersamaan dalam satu alur kerja laboratorium:
Kembali ke Organic/Inorganic Particles. Untuk pengadaan volume besar, kemasan khusus, atau grade tertentu, hubungi tim AMI Scientific — distributor resmi TCI Japan di Indonesia — untuk pengecekan ketersediaan dan lead time langsung ke Jepang.
