Target sputtering aluminium (aluminum sputtering target) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,99% dengan ukuran 1'' dan ketebalan 0,125'', dijual per satu buah. Target berfungsi sebagai sumber material dalam deposisi sputter, yaitu proses ketika atom dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis (thin film) pada substrat seperti wafer silikon.
Aluminium merupakan logam putih keperakan yang lunak dan ulet, dikenal ringan, kuat, tahan lama, serta tahan korosi berkat lapisan oksida yang sangat tipis namun kuat. Logam ini juga memiliki konduktivitas termal dan listrik yang tinggi. Struktur mikro target yang berbutir halus menghasilkan erosi yang merata dan risiko pembentukan partikel yang rendah selama proses sputtering.
Sputtering adalah teknik yang dapat diulang dengan hasil konsisten, cocok untuk berbagai bentuk dan ukuran substrat, serta dapat ditingkatkan dari skala riset hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Banyaknya parameter proses memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan struktur mikro lapisan.
- Deposisi lapisan tipis aluminium pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis material melalui pengikisan, misalnya pada spektroskopi ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Penelitian pelapukan antariksa (space weathering) yang mengubah sifat benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01AL001
- Material: Aluminium (Al)
- Ukuran: 1''
- Ketebalan: 0,125''
- Struktur mikro: Berbutir halus
—
—