Target sputtering aluminum (Al) adalah sumber logam padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD). Di dalam ruang vakum, target dibombardir dengan ion berenergi tinggi, sehingga atom aluminum terlepas dan mengendap di atas substrat sebagai lapisan tipis. Aluminum termasuk golongan logam dan banyak digunakan untuk lapisan tipis konduktif serta reflektif.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan kontak dan interkoneksi konduktif dalam riset elektronika lapis tipis
- Lapisan reflektif dan cermin untuk komponen optik
- Pembuatan prototipe lapisan tipis untuk studi perangkat fotovoltaik dan display
- Eksperimen lapisan permukaan dan pelindung dalam ilmu material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—