Target sputtering aluminum (Al) adalah lempengan logam padat yang digunakan sebagai material sumber dalam physical vapor deposition (sputtering). Dalam proses ini, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target sehingga atom aluminum terlepas dan mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. Aluminum adalah logam ringan dan konduktif listrik dari golongan logam pasca-transisi, yang dihargai karena konduktivitas dan reflektivitasnya yang baik. Produk ini ditawarkan dalam rangkaian nanomaterial Nanografi.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan elektroda dan interkoneksi dalam riset dan pembuatan prototipe mikroelektronika
- Lapisan reflektif untuk pengembangan optik dan cermin
- Lapisan adhesi atau penghalang dalam studi perangkat lapis tipis
- Riset lapisan pelindung dan dekoratif
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—