Target sputtering aluminium (aluminum sputtering target) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,999%, berukuran 1'' dengan ketebalan 0,250'', dan dipasok per satu buah. Target ini menjadi bahan sumber untuk mendeposisikan lapisan tipis aluminium pada substrat seperti wafer silikon melalui proses sputtering.
Deposisi sputter dapat diterapkan pada substrat dengan beragam bentuk dan ukuran, memberikan hasil yang dapat diulang, serta dapat ditingkatkan skalanya dari proyek riset dan pengembangan kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Banyaknya parameter proses memungkinkan pengguna berpengalaman mengendalikan pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan secara cermat.
Aluminium adalah logam putih keperakan yang ringan, lunak, dan ulet, dikenal karena kekuatan, ketahanan, dan ketahanannya terhadap korosi berkat lapisan oksida yang sangat tipis namun kuat. Logam ini juga memiliki konduktivitas termal dan listrik yang tinggi. Mikrostruktur target yang berbutir halus mendukung erosi yang merata dan menekan pembentukan partikel selama sputtering.
- Deposisi lapisan tipis aluminium pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis material melalui etsa, misalnya spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Penelitian terkait pelapukan antariksa (space weathering) pada benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,999% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01AL04
- Material: Aluminium (Al)
- Ukuran: 1''
- Ketebalan: 0,250''
- Mikrostruktur: Berbutir halus
- Kode produk: NG0ST01AL04
—
—