Target sputtering aluminum (Al) adalah lempeng logam padat yang digunakan sebagai bahan sumber dalam proses physical vapor deposition (PVD), di mana atom-atom dilepaskan dari target dan diendapkan pada substrat untuk membentuk lapisan tipis. Aluminum termasuk golongan material logam ringan dan banyak dipelajari karena konduktivitas listrik dan reflektivitasnya yang baik dalam bentuk lapisan tipis.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran.
- Lapisan metalisasi dalam riset perangkat elektronik lapis tipis
- Lapisan reflektif untuk komponen optik dan cermin
- Lapisan tipis pelindung dan dekoratif
- Studi dasar pertumbuhan lapisan tipis dan proses deposisi
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—