Target sputtering aluminium (aluminum sputtering target) dari Nanografi ini berukuran 2'' dengan ketebalan 0,250'' dan kemurnian 99,99%. Target ini digunakan sebagai bahan sumber untuk mendeposisikan lapisan tipis aluminium melalui sputtering, yaitu metode yang mengikis material dari target lalu mengendapkannya pada substrat seperti wafer silikon.
Aluminium adalah logam berwarna putih keperakan yang lunak dan mudah dibentuk, dikenal karena ringan, kuat, tahan lama, dan tahan korosi. Logam ini membentuk lapisan oksida yang sangat tipis namun kuat, serta memiliki konduktivitas termal dan listrik yang tinggi. Mikrostruktur target yang berbutir sangat halus membantu pengikisan berlangsung merata dan menekan pembentukan partikel selama proses sputtering.
Deposisi sputter dapat diterapkan pada berbagai bentuk dan ukuran substrat dengan hasil yang dapat diulang. Prosesnya dapat ditingkatkan dari proyek riset skala kecil hingga produksi dengan area substrat menengah sampai besar, dan banyaknya parameter proses memberi kendali yang baik atas pertumbuhan serta mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis aluminium pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material dengan pengikisan, seperti pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkadar sangat rendah.
- Proyek riset dan pengembangan yang dapat ditingkatkan ke produksi area substrat menengah hingga besar.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01AL07
- Material: Aluminium (Al)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,250''
- Mikrostruktur: Berbutir halus
—
—