Target sputtering aluminum (Al) adalah pelat logam padat yang digunakan sebagai material sumber dalam physical vapor deposition (PVD). Pada proses sputtering, ion berenergi tinggi menumbuk permukaan target dan melepaskan atom aluminum, yang kemudian mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. Aluminum termasuk golongan logam teknik non-ferrous yang ringan dan mudah dibentuk, dihargai karena konduktivitas listrik dan reflektivitasnya yang baik.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran harga.
- Lapisan metalisasi dan interkoneksi dalam riset mikroelektronika dan semikonduktor
- Lapisan reflektif untuk komponen optik dan cermin
- Lapisan pelindung dan dekoratif pada kaca, plastik, dan logam
- Lapisan penghalang dan perekat dalam pengembangan perangkat lapisan tipis multilapis
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—