Target sputtering aluminium (aluminum sputtering target) dari Nanografi ini berbentuk cakram berukuran 3'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,999%. Target ini berfungsi sebagai bahan sumber dalam deposisi sputter, yaitu proses pengikisan material dari target yang kemudian mengendap sebagai lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
Sputtering merupakan teknik yang telah teruji dan dapat diulang dengan hasil konsisten untuk melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran. Proses ini dapat ditingkatkan skalanya dari proyek riset dan pengembangan kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Banyaknya parameter proses memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
Aluminium adalah logam putih keperakan yang ringan, lunak, dan ulet, dikenal karena kekuatan, daya tahan, serta ketahanannya terhadap korosi berkat lapisan oksida yang sangat tipis namun kuat. Logam ini juga memiliki konduktivitas termal dan listrik yang tinggi. Mikrostruktur target yang berbutir sangat halus mendukung erosi yang merata dan rendahnya kecenderungan pembentukan partikel selama sputtering.
- Deposisi lapisan tipis aluminium pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material dengan sputtering, misalnya spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Penelitian pelapukan antariksa (space weathering) pada benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,999% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01AL10
- Material: Aluminium (Al)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,125''
- Mikrostruktur: Berbutir halus
- Kode produk: NG0ST01AL10
—
—