Sputtering target aluminum (Al) adalah sumber logam padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD). Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target dan melepaskan atom aluminium, yang kemudian mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. Aluminium adalah logam yang banyak dipelajari karena konduktivitas listrik dan daya pantulnya, dan produk ini termasuk dalam golongan material sputtering logam.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan tipis logam untuk riset elektronik dan semikonduktor
- Lapisan reflektif dan optik untuk cermin serta komponen sensor
- Lapisan elektroda dan interkoneksi konduktif dalam pembuatan prototipe perangkat
- Lapisan pelindung dan dekoratif yang dipelajari dalam riset material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—