Target sputtering aluminum (Al) adalah lempeng logam padat yang digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD). Bombardir ion melepaskan atom aluminum dari permukaan target, yang kemudian mengendap pada substrat untuk membentuk lapisan tipis. Sebagai target logam dalam kategori nanomaterial, aluminum banyak diteliti untuk lapisan konduktif dan reflektif.
- Jumlah: 1 buah
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis logam konduktif untuk riset perangkat elektronik
- Pengembangan lapisan reflektif dan optik
- Studi lapisan penghalang dan interkoneksi dalam mikrofabrikasi
- Riset lapisan tipis menggunakan sistem magnetron sputtering
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—