Sputtering target aluminium (Al) adalah pelat logam padat yang digunakan sebagai material sumber dalam physical vapor deposition (PVD), paling umum pada magnetron sputtering, untuk mendeposisikan lapisan tipis aluminium pada substrat. Aluminium adalah logam ringan dan ulet dari golongan logam pasca-transisi, yang dikenal karena konduktivitas listriknya yang baik dan reflektivitasnya yang tinggi.
- Kuantitas: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan metalisasi dan elektroda dalam riset elektronika lapisan tipis
- Lapisan reflektif untuk komponen optik dan cermin
- Lapisan konduktif dan penghalang dalam pembuatan prototipe perangkat semikonduktor
- Lapisan pelindung dan dekoratif pada substrat kaca, polimer, dan logam
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—