Target sputtering aluminium (aluminum sputtering target) dari Nanografi ini adalah sumber logam berkemurnian tinggi untuk membuat lapisan tipis aluminium dengan metode sputtering. Kemurniannya 99,999%, ukurannya 4'' dan tebalnya 0,250''. Selama deposisi, material terkikis dari target lalu menempel pada substrat seperti wafer silikon.
Sputtering dapat digunakan untuk beragam material serta substrat dengan berbagai bentuk dan ukuran. Prosesnya dapat diulang dengan konsisten dan dapat ditingkatkan dari proyek riset dan pengembangan skala kecil ke batch produksi dengan area substrat sedang hingga besar. Banyaknya parameter proses memungkinkan pengguna berpengalaman mengendalikan pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan secara cermat.
Aluminium adalah logam putih keperakan yang ringan, lunak, dan ulet. Logam ini kuat, awet, dan tahan korosi berkat lapisan oksida yang sangat tipis namun kokoh. Aluminium juga memiliki konduktivitas termal dan listrik yang tinggi. Target ini memiliki mikrostruktur berbutir sangat halus sehingga pengikisan berlangsung merata dan pembentukan partikel selama sputtering rendah.
- Deposisi lapisan tipis aluminium pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi kendala.
- Analisis material melalui etsa, misalnya spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Pengembangan proses dari skala riset kecil hingga batch produksi dengan area substrat sedang sampai besar.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,999% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01AL16
- Material: Aluminium (Al)
- Ukuran: 4''
- Ketebalan: 0,250''
- Mikrostruktur: Berbutir halus
- Kode produk: NG0ST01AL16
—
—