Target sputtering aluminum (Al) adalah sumber logam padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membuat lapisan tipis. Aluminum termasuk golongan target sputtering logam, yang dihargai karena bobotnya yang ringan serta sifat listrik dan reflektifnya yang baik. Target ini umumnya disediakan dalam bentuk cakram atau pelat untuk digunakan pada sistem sputtering. Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi melepaskan atom dari permukaan target, yang kemudian mengendap pada substrat.
- 1 buah
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan metalisasi dan kontak konduktif dalam riset perangkat elektronik lapis tipis
- Lapisan reflektif untuk riset optik dan cermin
- Kajian lapis tipis dalam ilmu material dan rekayasa permukaan
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—