Target sputtering aluminum (Al) adalah bahan sumber logam padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (sputtering) untuk membentuk lapisan tipis aluminum pada substrat. Aluminum termasuk golongan logam ringan dengan sifat konduktif listrik, sehingga targetnya dipilih untuk eksperimen yang membutuhkan sumber pelapisan logam yang andal. Target umumnya dipasang pada sistem sputtering, di mana bombardir ion melepaskan atom yang kemudian mengendap pada substrat dan membentuk lapisan terkontrol.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis konduktif untuk riset elektroda dan interkoneksi
- Pengembangan lapisan reflektif dan optik pada substrat kaca dan polimer
- Pembuatan prototipe lapisan perangkat mikroelektronik dan semikonduktor
- Studi pelapisan permukaan untuk evaluasi korosi dan lapisan penghalang
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—