Target sputtering aluminum (Al) adalah lempeng logam padat yang digunakan sebagai material sumber dalam proses physical vapor deposition (PVD), seperti DC atau RF magnetron sputtering, untuk membentuk lapisan tipis pada substrat. Aluminum adalah logam ringan dan mudah ditempa dari golongan logam pasca-transisi, yang banyak dipelajari dan digunakan dalam riset lapisan tipis karena sifat konduktivitas dan reflektivitasnya.
- 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan kontak dan interkoneksi logam untuk pembuatan prototipe perangkat elektronik lapisan tipis
- Pembuatan lapisan reflektif dan optik untuk riset cermin dan komponen optik
- Studi lapisan elektroda dan lapisan penghalang dalam ilmu material dan rekayasa permukaan
- Pengembangan proses dan optimasi parameter deposisi di laboratorium universitas dan industri
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—