Target sputtering aluminium (aluminum sputtering target) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,999%, ukuran 6'', dan ketebalan 0,125'', dijual per satu buah. Target ini menjadi bahan sumber untuk membentuk lapisan tipis aluminium melalui proses sputtering pada substrat seperti wafer silikon.
Aluminium adalah logam putih keperakan yang ringan, lunak, dan ulet, dikenal karena kekuatan, daya tahan, serta ketahanannya terhadap korosi berkat lapisan oksida yang sangat tipis namun kuat di permukaannya. Logam ini juga memiliki konduktivitas termal dan listrik yang tinggi. Struktur mikronya yang berbutir halus membantu erosi target berlangsung merata dan meminimalkan pembentukan partikel selama sputtering.
Deposisi sputter merupakan proses yang dapat diulang, cocok untuk substrat dengan beragam bentuk dan ukuran, serta dapat ditingkatkan dari proyek riset skala kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Banyaknya parameter proses memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan struktur mikro lapisan.
- Deposisi lapisan tipis aluminium pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) di bidang semikonduktor ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis material melalui etsa, misalnya pada spektroskopi massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkadar sangat rendah.
- Penelitian pelapukan antariksa (space weathering) yang mengubah sifat benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,999% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01AL19
- Material: Aluminium (Al)
- Ukuran: 6''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01AL19
—
—