Target sputtering aluminium (Al) adalah sumber logam padat yang digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD). Ion berenergi tinggi menumbuk permukaan target dan melepaskan atom aluminium, yang kemudian mengendap pada substrat sebagai lapisan tipis. Sebagai target logam, aluminium termasuk dalam golongan target sputtering logam yang banyak digunakan dalam riset lapisan tipis di laboratorium.
- 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi elektroda lapisan tipis konduktif dan lapisan interkoneksi untuk riset elektronika
- Lapisan reflektif dan optik untuk studi fotonika dan display
- Pengembangan lapisan penghalang dan lapisan perekat dalam riset proses lapisan tipis
- Pembuatan struktur uji logam di laboratorium ilmu material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—