Target sputtering aluminium (aluminum sputtering target) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,99%, ukuran 8'' dan ketebalan 0,250''. Target berfungsi sebagai sumber material pada deposisi sputter, yaitu proses ketika atom dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis (thin film) pada substrat seperti wafer silikon.
Teknik sputtering mampu melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran. Prosesnya dapat diulang dengan hasil konsisten, cocok untuk proyek riset skala kecil, dan dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat sedang hingga besar. Banyaknya parameter proses memberi pengguna berpengalaman kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
Aluminium adalah logam putih keperakan yang lunak dan ulet, dikenal ringan, kuat, tahan lama, serta tahan korosi berkat lapisan oksida yang sangat tipis namun kuat. Logam ini juga memiliki konduktivitas termal dan listrik yang tinggi. Target ini bermikrostruktur sangat halus, sehingga erosi berlangsung merata dan pembentukan partikel selama sputtering rendah.
- Deposisi lapisan tipis aluminium pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) bila dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis material melalui sputtering, misalnya spektroskopi ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Penelitian pelapukan antariksa (space weathering) pada benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01AL24
- Material: Aluminium (Al)
- Ukuran: 8''
- Ketebalan: 0,250''
- Mikrostruktur: Butiran halus
- Kode produk: NG0ST01AL24
—
—