Target sputtering aluminum adalah sumber logam padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD). Bombardir ion melepaskan atom dari permukaan target, yang kemudian mengendap pada substrat dan membentuk lapisan tipis. Sebagai material sputtering logam, target aluminum umum digunakan dalam riset pelapisan dan lapisan tipis di laboratorium.
- 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan konduktif dan elektroda tipis dalam riset elektronik
- Lapisan reflektif untuk komponen dan cermin optik
- Pengembangan lapisan adhesi atau penghalang dalam ilmu material
- Studi lapisan pelindung dan dekoratif
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—