Target sputtering aluminium (aluminum sputtering target) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,999%, ukuran 8'' dan ketebalan 0,250''. Target ini berfungsi sebagai sumber material dalam proses deposisi sputter, di mana atom dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
Metode sputtering dapat diterapkan pada substrat dengan beragam bentuk dan ukuran, memberikan hasil yang konsisten, serta dapat ditingkatkan skalanya dari riset dan pengembangan hingga produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Banyaknya parameter proses memungkinkan pengendalian yang cermat atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
Aluminium adalah logam ringan berwarna putih keperakan, lunak dan ulet, yang dikenal kuat, tahan lama, tahan korosi, serta memiliki konduktivitas termal dan listrik yang tinggi. Logam ini membentuk lapisan oksida yang sangat tipis namun kuat. Target ini memiliki mikrostruktur berbutir sangat halus sehingga erosi berlangsung merata dan pembentukan partikel selama sputtering rendah.
- Deposisi lapisan tipis aluminium pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis material melalui sputtering, misalnya spektroskopi ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Proses pelapisan yang dapat ditingkatkan dari skala riset hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,999% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01AL25
- Material: Aluminium (Al)
- Ukuran: 8''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01AL25
—
—