Target sputtering Aluminum Nitride (AlN) adalah sumber padat keramik aluminum nitride, senyawa nitrida dari aluminum dan nitrogen. Target ini digunakan dalam physical vapor deposition (sputtering) untuk membentuk lapisan tipis pada substrat untuk proses riset dan industri.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran harga.
- Deposisi lapisan tipis dielektrik untuk substrat dan kemasan elektronik
- Lapisan tipis piezoelektrik untuk perangkat MEMS dan resonator akustik
- Lapisan optik dan pelindung dalam riset lapisan tipis
- Pengembangan struktur film semikonduktor dan nitrida celah pita lebar
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—