Target sputtering Aluminum Nitride (AlN) adalah material sumber padat berbahan keramik yang digunakan dalam physical vapor deposition untuk membentuk lapisan tipis. AlN merupakan senyawa nitrida dalam golongan keramik teknik maju, dihargai karena sifat isolasi listrik dan sifat termalnya dalam proses lapisan tipis.
- Kuantitas: 1 buah
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis AlN piezoelektrik untuk perangkat MEMS dan resonator
- Lapisan pasivasi dan dielektrik dalam riset mikroelektronika dan semikonduktor
- Lapisan optik dan pelindung dalam riset lapisan tipis
- Pengembangan riset semikonduktor celah pita lebar dan material III-nitrida
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—