Aluminum Nitride (AlN) adalah senyawa keramik maju dari aluminium dan nitrogen, tergolong keramik teknis celah pita lebar dan material semikonduktor. Target sputtering adalah lempeng sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk mendeposisikan lapisan tipis pada substrat dalam proses riset dan industri.
- Kuantitas: 1 buah
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan tipis piezoelektrik untuk resonator MEMS dan filter akustik
- Lapisan isolasi listrik dan penghantar panas pada perangkat elektronik
- Lapisan pasif dan pelindung
- Riset lapisan tipis dielektrik dan optik
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—