Target sputtering aluminum nitrida (AlN) adalah material sumber berbasis keramik dari golongan keramik nitrida, yang juga dikenal sebagai semikonduktor senyawa celah pita lebar. Dalam proses sputtering, target dibombardir dengan ion berenergi tinggi sehingga atom AlN terlepas dan terdeposisi sebagai lapisan tipis pada substrat. Target sputtering Nanografi ditujukan untuk riset lapis tipis skala laboratorium dan pilot.
- Kuantitas: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis AlN piezoelektrik untuk riset MEMS dan resonator akustik
- Pembuatan lapisan dielektrik dan pasivasi dalam studi mikroelektronika
- Pengembangan lapisan pelindung konduktif termal dan lapisan penyebar panas
- Riset lapisan perangkat optoelektronik dan UV
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—