Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Aluminum Nitride (AlN) Sputtering Targets

Aluminum Nitride (AlN) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 39.707.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 39.707.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Aluminum Nitride (AlN) adalah senyawa keramik dari aluminium dan nitrogen, tergolong keramik rekayasa dengan celah pita lebar. Material ini dihargai karena sifat isolasi listriknya, konduktivitas termal yang baik, dan stabilitas kimianya. Dalam bentuk target sputtering, AlN berfungsi sebagai material sumber untuk physical vapor deposition, menghasilkan lapisan tipis yang digunakan dalam riset dan pengembangan perangkat maju.

  • 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Lapisan tipis piezoelektrik untuk riset perangkat gelombang akustik dan MEMS
  • Lapisan dielektrik dan pasivasi dalam studi mikroelektronika
  • Lapisan pelindung dan optik pada substrat fungsional
  • Pengembangan lapisan manajemen termal untuk komponen elektronik

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—