Aluminium nitrida (AlN) adalah senyawa keramik dari aluminium dan nitrogen. Material ini termasuk dalam keluarga nitrida grup III dan golongan semikonduktor celah pita lebar serta keramik teknis. Target sputtering adalah cakram atau pelat padat yang digunakan sebagai sumber material dalam physical vapor deposition, di mana atom dilepaskan dari target dan diendapkan pada substrat untuk membentuk lapisan tipis.
- Jumlah: 1 buah
Untuk spesifikasi teknis, sertifikat analisis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan tipis piezoelektrik untuk riset resonator MEMS dan filter akustik
- Lapisan dielektrik dan pasivasi dalam pengembangan perangkat elektronik
- Lapisan pelindung yang konduktif termal dan isolatif listrik
- Studi lapisan tipis optik dan pelindung dalam riset material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—