Target sputtering aluminium oksida (aluminum oxide sputtering target) Al2O3 dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,99% dengan ukuran 1'' dan ketebalan 0,125'', dipasok per satu buah. Target ini menjadi bahan sumber untuk deposisi lapisan tipis Al2O3 di atas substrat seperti wafer silikon.
Pada proses sputtering, material dikikis dari target lalu diendapkan pada substrat dengan beragam bentuk dan ukuran. Prosesnya dapat diulang dengan konsisten dan bisa ditingkatkan dari skala riset hingga produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Sifat lapisan dipengaruhi parameter seperti laju sputtering, jarak target ke substrat, dan tekanan gas reaktif, sehingga pengguna dapat mengendalikan pertumbuhan serta mikrostruktur lapisan.
Lapisan aluminium oksida dikenal inert secara kimia, kuat dan keras, transparan, tahan abrasi dan korosi, bersifat isolator, serta memiliki medan tembus listrik dan konstanta dielektrik yang tinggi. Karena itu, material ini banyak dipakai dalam bidang mekanik, optik, dan mikroelektronika, termasuk optoelektronika, tribologi, sensor, dan nanolitografi.
- Deposisi lapisan pelindung dan penghalang difusi berbasis aluminium oksida.
- Pembuatan lapisan dielektrik dan segel elektronik untuk perangkat mikroelektronika.
- Pembuatan lapisan optik yang memanfaatkan transparansi lapisan Al2O3.
- Riset lapisan tipis di bidang optoelektronika, tribologi, sensor, dan nanolitografi.
- Sputter etching ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01AL47
- Material: Aluminium Oksida (Al2O3)
- Ukuran: 1''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01AL47
—
—