Target sputtering Aluminum Oxide (Al2O3) adalah lempeng sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk melapiskan film tipis ke substrat. Aluminum oxide merupakan oksida logam keramik yang termasuk golongan keramik oksida, dikenal karena sifatnya sebagai isolator listrik dan dielektrik.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Film tipis dielektrik dan isolasi dalam riset perangkat elektronik
- Lapisan optik dan pelindung dalam riset material
- Lapisan penghalang difusi pada studi film tipis
- Eksperimen modifikasi permukaan di laboratorium universitas dan industri
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—