Target sputtering aluminium oksida (aluminum oxide sputtering target) Al2O3 dari Nanografi ini berbentuk cakram berukuran 1'' dengan ketebalan 0,250'' dan kemurnian 99,99%. Produk ini digunakan sebagai bahan sumber untuk membuat lapisan tipis (thin film) Al2O3 melalui proses sputtering, metode yang hasilnya dapat diulang, cocok untuk substrat berbagai bentuk dan ukuran, serta dapat ditingkatkan dari skala riset hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Al2O3 merupakan senyawa aluminium dan oksigen yang dikenal inert secara kimia, keras, kuat secara mekanis, transparan, serta tahan abrasi dan korosi. Material ini juga memiliki medan tembus listrik (breakdown field) dan konstanta dielektrik yang tinggi, sehingga lapisan alumina hasil sputtering banyak dimanfaatkan sebagai lapisan isolator maupun optik.
Sifat lapisan akhir ditentukan oleh parameter sputtering seperti laju sputtering, jarak target ke substrat, dan tekanan gas reaktif, sehingga pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan dapat dikendalikan secara luas. Lapisan alumina digunakan di bidang mekanik, optik dan mikroelektronika, termasuk optoelektronika, tribologi, sensor dan nanolitografi.
- Deposisi lapisan dielektrik Al2O3 untuk perangkat mikroelektronika.
- Pembuatan lapisan pelindung yang keras dan tahan korosi.
- Pembuatan lapisan penghalang difusi (diffusion barrier) dan segel elektronik.
- Deposisi lapisan optik transparan untuk aplikasi optoelektronika.
- Riset lapisan tipis di bidang tribologi, sensor dan nanolitografi.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01AL49
- Material: Aluminium Oksida (Al2O3)
- Ukuran: 1''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01AL49
—
—