Aluminum oxide (Al2O3) adalah oksida keramik anorganik dari aluminium, tergolong material oksida keramik maju. Sputtering target adalah pelat padat dan rapat dari material tersebut yang digunakan sebagai sumber dalam proses physical vapor deposition (PVD) untuk melapisi substrat dengan lapisan tipis dalam keperluan riset dan industri.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan tipis isolator dan dielektrik untuk riset perangkat mikroelektronika
- Lapisan pelindung dan tahan aus yang dipelajari dalam ilmu material
- Lapisan tipis optik untuk pembuatan prototipe laboratorium
- Lapisan penghalang dan pasivasi dalam eksperimen rekayasa permukaan
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—