Target sputtering aluminium oksida (Al2O3) adalah lempengan keramik oksida padat yang digunakan sebagai material sumber dalam physical vapor deposition (PVD). Selama sputtering, ion menghantam permukaan target dan melepaskan atom yang kemudian mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. Aluminium oksida termasuk golongan material keramik teknis dan oksida, yang dikenal karena sifat isolasi listrik, stabilitas kimia, dan kekerasannya.
- Jumlah: 1 buah
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan dielektrik dan isolasi dalam riset elektronika lapisan tipis
- Lapisan pelindung dan tahan aus pada permukaan
- Lapisan tipis optik untuk riset pelapisan dan lapisan interferensi
- Lapisan penghalang dalam studi pengembangan material dan perangkat
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—