Target sputtering aluminium oksida (aluminum oxide sputtering target) ini berbentuk cakram berukuran 2'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,999%. Target berfungsi sebagai sumber material dalam deposisi sputter, yaitu proses pengikisan material dari target yang kemudian mengendap sebagai lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
Al2O3 merupakan senyawa aluminium dan oksigen yang dikenal keras, bertitik leleh tinggi, inert secara kimia, kuat secara mekanis, serta tahan abrasi dan korosi. Material ini juga memiliki medan tembus listrik dan konstanta dielektrik yang tinggi, sifat isolasi dan optik yang baik, serta transparan. Lapisan tipis dari target ini banyak dipakai pada aplikasi mekanis, optik, dan mikroelektronika.
Proses sputtering bersifat dapat diulang dan dapat ditingkatkan dari proyek riset skala kecil hingga produksi pada substrat berukuran sedang sampai besar. Sifat lapisan dipengaruhi parameter sistem seperti laju sputtering, jarak target ke substrat, dan tekanan gas reaktif, sehingga pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan dapat dikendalikan dengan baik.
- Deposisi lapisan dielektrik dan isolator untuk perangkat mikroelektronika.
- Pelapis pelindung yang tahan abrasi dan korosi.
- Penghalang difusi (diffusion barrier) dan segel elektronik.
- Lapisan optik untuk bidang optik dan optoelektronika.
- Lapisan tipis untuk riset tribologi, sensorik, dan nanolitografi.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,999% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01AL53
- Material: Aluminium Oksida (Al2O3)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01AL53
—
—