Target sputtering Aluminum Oxide (Al2O3) adalah material sumber padat yang terbuat dari alumina, sebuah keramik oksida yang banyak digunakan dalam golongan material maju. Selama proses physical vapor deposition, target dibombardir ion sehingga atomnya terlepas dan terdeposisi pada substrat, membentuk film tipis alumina dengan sifat isolasi listrik yang baik, stabilitas kimia, dan kekerasan mekanik.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran.
- Lapisan dielektrik dan isolasi dalam riset elektronika film tipis
- Lapisan pelindung dan tahan aus pada komponen laboratorium maupun industri
- Pengembangan film tipis optik dan lapisan anti-refleksi
- Studi lapisan penghalang difusi dan pasivasi
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—