Target sputtering aluminum oxide (Al2O3) merupakan sumber padat bahan keramik oksida yang digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD). Selama sputtering, material dilepaskan dari target dan diendapkan pada substrat untuk membentuk lapisan tipis. Aluminum oxide termasuk golongan keramik oksida, yang dikenal karena sifat isolasi listrik, kekerasan, dan stabilitas kimianya.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan dielektrik dan isolasi pada elektronika lapisan tipis
- Lapisan optik pada lensa dan substrat kaca
- Lapisan pelindung dan tahan aus
- Riset lapisan tipis oksida dalam ilmu material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—