Target sputtering aluminium oksida (aluminum oxide sputtering target) ini berbentuk cakram berukuran 3'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,99%. Target ini menjadi bahan sumber untuk deposisi lapisan tipis (thin film) aluminium oksida dengan metode sputtering ke atas substrat seperti wafer silikon. Prosesnya dapat diulang secara konsisten dan dapat ditingkatkan dari skala riset hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Al2O3 merupakan senyawa aluminium dan oksigen yang dikenal karena kekerasan, titik leleh tinggi, dan sifatnya yang inert secara kimia. Lapisan hasil sputtering dari target ini memiliki kekuatan mekanis, transparansi, ketahanan tinggi terhadap abrasi dan korosi, sifat isolasi listrik, medan tembus listrik yang tinggi, serta konstanta dielektrik yang tinggi, sehingga cocok untuk aplikasi mekanis, optik, dan mikroelektronika.
Sifat lapisan bergantung pada parameter sistem sputtering, seperti laju sputtering, jarak target ke substrat, dan tekanan gas reaktif, sehingga pengguna berpengalaman dapat mengendalikan pertumbuhan dan struktur mikro lapisan secara luas.
- Deposisi lapisan dielektrik dan isolator Al2O3 pada perangkat mikroelektronika.
- Pembuatan lapisan pelindung yang keras serta tahan abrasi dan korosi.
- Pembuatan lapisan penghalang difusi (diffusion barrier) dan segel elektronik.
- Deposisi lapisan optik untuk aplikasi optik dan optoelektronika.
- Riset lapisan tipis di bidang tribologi, sensor, dan nanolitografi.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01AL56
- Material: Aluminium Oksida (Al2O3)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,125''
—
—