Target sputtering aluminium oksida (aluminum oxide sputtering target) Al2O3 ini berbentuk cakram berukuran 3'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,999%. Target ini digunakan sebagai bahan sumber untuk deposisi lapisan tipis (thin film) Al2O3 di atas substrat seperti wafer silikon, baik untuk riset skala kecil maupun produksi batch dengan area substrat menengah hingga besar.
Al2O3 merupakan senyawa aluminium dan oksigen yang dikenal karena inert secara kimia, keras, kuat secara mekanis, tahan abrasi dan korosi, serta memiliki medan tembus listrik dan konstanta dielektrik yang tinggi. Lapisan yang dihasilkan bersifat transparan dan isolatif sehingga banyak dimanfaatkan di bidang mekanik, optik, dan mikroelektronika.
Sifat akhir lapisan dipengaruhi oleh pengaturan sistem sputtering, antara lain laju sputtering, jarak target ke substrat, dan tekanan gas reaktif. Banyaknya parameter ini memberi pengguna berpengalaman kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan pelindung dengan kekerasan dan ketahanan abrasi yang tinggi.
- Pembuatan lapisan dielektrik dan isolator pada perangkat mikroelektronika.
- Pembuatan penghalang difusi (diffusion barrier) dan segel elektronik.
- Deposisi lapisan optik transparan untuk aplikasi optoelektronika.
- Riset lapisan tipis di bidang tribologi, sensor, dan nanolitografi.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,999% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01AL57
- Material: Aluminium Oksida (Al2O3)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01AL57
—
—