Target sputtering aluminium oksida (aluminum oxide sputtering target) ini berbentuk cakram berdiameter 3'' dengan ketebalan 0,250'' dan kemurnian 99,99%. Produk ini digunakan sebagai bahan sumber untuk deposisi lapisan tipis Al2O3 melalui proses sputtering, yaitu pengikisan material dari target yang kemudian mengendap pada substrat seperti wafer silikon.
Lapisan tipis Al2O3 dikenal karena sifatnya yang inert secara kimia, kuat dan keras, tahan abrasi dan korosi, transparan, serta bersifat isolator dengan medan tembus listrik dan konstanta dielektrik yang tinggi. Karena itu, lapisan ini banyak dimanfaatkan dalam bidang mekanik, optik, dan mikroelektronika, termasuk optoelektronika, tribologi, sensor, dan nanolitografi.
Proses sputtering bersifat dapat diulang dan dapat ditingkatkan skalanya dari proyek riset kecil hingga produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Sifat akhir lapisan dipengaruhi oleh parameter seperti laju sputtering, jarak target ke substrat, dan tekanan gas reaktif, sehingga pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan dapat dikendalikan dengan baik.
- Deposisi lapisan tipis Al2O3 untuk pelapis pelindung.
- Pembuatan lapisan dielektrik dan segel elektronik pada perangkat mikroelektronika.
- Pembentukan penghalang difusi (diffusion barrier) pada struktur lapisan tipis.
- Pembuatan lapisan optik untuk aplikasi optik dan optoelektronika.
- Penelitian lapisan tipis di bidang tribologi, sensor, dan nanolitografi.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01AL58
- Material: Aluminium Oksida (Al2O3)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01AL58
—
—