Aluminum oxide (Al2O3), yang umumnya dikenal sebagai alumina, adalah oksida keramik anorganik yang termasuk dalam golongan keramik maju. Sputtering target merupakan bentuk padat dan rapat dari material ini yang digunakan sebagai sumber dalam proses physical vapor deposition (PVD), di mana atom-atom dilepaskan dari target dan diendapkan pada substrat untuk membentuk lapisan tipis.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan dielektrik dan isolasi dalam riset perangkat elektronik lapisan tipis
- Lapisan pelindung dan tahan aus yang dipelajari dalam ilmu material
- Lapisan tipis optik untuk riset pelapisan dan lapisan interferensi
- Lapisan penghalang dalam pengembangan proses lapisan tipis
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—