Target sputtering aluminium oksida (aluminum oxide sputtering target) Al2O3 ini memiliki kemurnian 99,99%, ukuran 4'' dan ketebalan 0,125''. Target ini menjadi bahan sumber untuk mendeposisikan lapisan tipis alumina melalui sputtering, proses yang dapat diulang dan dapat ditingkatkan dari proyek riset skala kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Al2O3 merupakan senyawa aluminium dan oksigen yang dikenal inert secara kimia, keras, kuat secara mekanis, sangat tahan abrasi dan korosi, serta memiliki medan tembus listrik dan konstanta dielektrik yang tinggi. Lapisan yang dihasilkan bersifat transparan dan isolatif, sehingga bermanfaat untuk aplikasi mekanis, optik maupun mikroelektronika.
Sifat akhir lapisan bergantung pada pengaturan sistem sputtering, antara lain laju sputtering, jarak target ke substrat dan tekanan gas reaktif. Banyaknya parameter ini memberi pengguna berpengalaman kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan dielektrik dan isolator pada perangkat mikroelektronika.
- Lapisan pelindung yang memanfaatkan kekerasan serta ketahanan abrasi dan korosi.
- Penghalang difusi (diffusion barrier) dan segel elektronik dalam fabrikasi perangkat.
- Lapisan optik untuk aplikasi optoelektronika.
- Lapisan tipis untuk riset tribologi, sensor dan nanolitografi.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01AL60
- Material: Aluminium Oksida (Al2O3)
- Ukuran: 4''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01AL60
—
—