Target sputtering aluminum oxide (Al2O3) adalah material sumber berbahan keramik yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis. Alumina termasuk golongan keramik oksida dan dihargai karena sifat isolasi listriknya, kekerasannya, serta stabilitas kimianya. Nanografi menyediakan target ini untuk pengembangan proses lapisan tipis di laboratorium.
- Kuantitas: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan dielektrik dan isolasi pada perangkat elektronik lapisan tipis
- Lapisan pelindung dan tahan aus pada permukaan fungsional
- Riset lapisan tipis untuk studi lapisan optik dan lapisan penghalang
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—