Target sputtering aluminum oxide (Al2O3) adalah pelat keramik padat dan rapat yang digunakan sebagai material sumber dalam physical vapor deposition (PVD) untuk melapisi film tipis alumina ke atas substrat. Al2O3 termasuk golongan keramik oksida, yang banyak diteliti karena sifat isolasi listrik, kekerasan mekanik, dan stabilitas kimianya. Produk Nanografi ini disediakan sebagai satu target untuk keperluan riset laboratorium dan skala pilot sputtering.
- Jumlah: 1 buah
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan dielektrik dan isolasi dalam riset mikroelektronika film tipis
- Lapisan pelindung dan tahan aus pada komponen optik dan mekanik
- Lapisan penghalang difusi dan pasivasi dalam struktur perangkat multilapis
- Pengembangan film tipis oksida untuk studi sensor dan pendukung katalis
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—