Aluminium oksida (Al2O3) adalah oksida keramik anorganik yang termasuk dalam golongan keramik teknik maju. Target sputtering adalah lempengan sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk melapiskan lapisan tipis ke atas substrat. Target sputtering Al2O3 dari Nanografi ini dirancang untuk proses deposisi lapisan tipis skala laboratorium dan riset.
- Kuantitas: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan tipis dielektrik dan isolasi dalam riset elektronika
- Pengembangan lapisan pelindung dan tahan aus
- Studi lapisan optik tipis
- Riset lapisan penghalang untuk teknik permukaan dan material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—