Target sputtering aluminum oxide (Al2O3) adalah material sumber keramik oksida yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk menghasilkan lapisan tipis. Aluminum oxide termasuk dalam golongan keramik teknik dan material oksida, yang dihargai karena sifat isolasi listriknya, stabilitas kimia, dan kekerasannya. Selama sputtering, target dibombardir dengan ion berenergi tinggi sehingga material terlepas dan terdeposisi pada substrat.
- 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan dielektrik dan isolasi dalam riset perangkat lapisan tipis
- Studi lapisan pelindung dan penghalang
- Pengembangan lapisan tipis optik
- Eksperimen pasivasi substrat dalam R&D semikonduktor
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—