Aluminum oxide (Al2O3) adalah material oksida keramik dari golongan keramik maju. Material ini dikenal karena kekerasannya, sifat isolasi listriknya, dan stabilitas termalnya. Sebagai target sputtering, material ini berupa sumber padat yang rapat dan digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis pada substrat dalam proses riset maupun industri.
- Jumlah: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis dielektrik dan isolasi untuk riset perangkat elektronik dan semikonduktor
- Lapisan pelindung dan tahan aus pada alat serta komponen
- Lapisan tipis optik untuk lapisan transparan maupun fungsional
- Pengembangan proses lapisan tipis untuk sensor dan perangkat mikroelektronik
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—