Target sputtering aluminium oksida (aluminum oxide sputtering target) Al2O3 ini memiliki kemurnian 99,99% dengan ukuran 6'' dan ketebalan 0,250'', dipasok per satu buah. Target ini menjadi bahan sumber dalam proses deposisi sputter untuk membentuk lapisan tipis (thin film) Al2O3 pada substrat seperti wafer silikon.
Al2O3 merupakan senyawa aluminium dan oksigen yang dikenal inert secara kimia, keras, kuat secara mekanis, tahan abrasi dan korosi, serta memiliki medan tembus listrik dan konstanta dielektrik yang tinggi. Lapisan yang dihasilkan bersifat transparan dan isolatif sehingga bermanfaat untuk aplikasi mekanis, optik, dan mikroelektronika. Sifat akhir lapisan dipengaruhi parameter sputtering seperti laju deposisi, jarak target ke substrat, dan tekanan gas reaktif.
Proses sputtering bersifat berulang (repeatable) dan dapat ditingkatkan skalanya dari riset kecil hingga batch produksi dengan area substrat sedang hingga besar, dengan kendali yang baik atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan dielektrik dan isolator Al2O3 untuk mikroelektronika.
- Pembuatan lapisan pelindung dan penghalang difusi (diffusion barrier).
- Pembuatan lapisan optik dan film untuk optoelektronika.
- Lapisan tipis untuk riset tribologi, sensor, dan nanolitografi.
- Lapisan segel elektronik dalam fabrikasi perangkat.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01AL66
- Material: Aluminium Oksida (Al2O3)
- Ukuran: 6''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01AL66
—
—