Aluminum oxide (Al2O3), juga dikenal sebagai alumina, adalah oksida keramik yang banyak dipelajari dan termasuk dalam golongan keramik maju serta material oksida. Target sputtering merupakan material sumber padat dan rapat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis di atas substrat. Target alumina dihargai karena sifat isolasi listriknya, stabilitas kimia, dan kekerasannya, sehingga menjadi pilihan umum untuk deposisi lapisan tipis oksida dalam penelitian.
- Jumlah: 1 buah
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan dielektrik dan isolasi dalam riset elektronik lapisan tipis
- Kajian lapisan pelindung dan pelapis tahan aus
- Pengembangan lapisan tipis optik
- Pertumbuhan lapisan tipis oksida dan optimasi proses pada sistem PVD
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—