Target sputtering aluminium oksida (aluminum oxide sputtering target) ini merupakan bahan sumber Al2O3 dengan kemurnian 99,99% untuk deposisi lapisan tipis melalui sputtering. Target berukuran 8'' dengan ketebalan 0,250'' dan dipasok per satu buah.
Al2O3 adalah senyawa aluminium dan oksigen yang dikenal karena kekerasan, titik leleh tinggi, dan sifatnya yang inert secara kimia. Lapisan tipis yang dihasilkan memiliki kekuatan mekanis, transparansi, ketahanan terhadap abrasi dan korosi, medan tembus listrik tinggi, serta konstanta dielektrik tinggi, sehingga cocok untuk aplikasi mekanis, optik, dan mikroelektronika.
Proses sputtering bersifat dapat diulang dan dapat ditingkatkan dari skala riset kecil hingga batch produksi dengan area substrat sedang hingga besar. Sifat lapisan dipengaruhi parameter seperti laju sputtering, jarak target ke substrat, dan tekanan gas reaktif, sehingga pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan dapat dikendalikan dengan baik.
- Deposisi lapisan tipis Al2O3 pada substrat seperti wafer silikon melalui sputtering.
- Pembuatan lapisan dielektrik dan isolator untuk perangkat mikroelektronika.
- Pembentukan lapisan pelindung dan penghalang difusi (diffusion barrier).
- Pembuatan lapisan optik dan segel elektronik.
- Riset di bidang optoelektronika, tribologi, sensor, dan nanolitografi.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01AL69
- Material: Aluminium Oksida (Al2O3)
- Ukuran: 8''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01AL69
—
—