Target sputtering aluminum oxide (Al2O3) merupakan sumber padat berbahan oksida keramik yang rapat, digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD). Termasuk dalam golongan oksida keramik maju, aluminum oxide dihargai karena sifat isolasi listrik, stabilitas kimia, dan kekerasannya, sehingga menjadi bahan target yang umum digunakan untuk deposisi lapisan tipis di lingkungan riset.
- 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis dielektrik dan isolator untuk riset elektronika
- Studi lapisan pelindung dan penghalang
- Pengembangan lapisan tipis optik
- Rekayasa permukaan dan pekerjaan laboratorium ilmu material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—