Target sputtering Aluminum Silicon (AlSi) adalah target paduan logam padat dari aluminium dan silikon, dirancang untuk proses physical vapor deposition (PVD). Selama sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target dan melepaskan atom yang kemudian mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. Sebagai target paduan, AlSi digunakan ketika diperlukan lapisan berbasis aluminium yang mengandung silikon untuk riset dan pengembangan lapisan tipis.
- Jumlah: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset lapisan metalisasi dan interkoneksi pada mikroelektronika
- Pengembangan lapisan tipis untuk pembuatan prototipe perangkat semikonduktor
- Lapisan pelindung dan fungsional pada substrat kaca atau logam
- Riset akademik dan industri terkait sifat lapisan tipis paduan
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—