Target sputtering aluminum silicon (AlSi) adalah material sumber logam padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD). Dalam golongan paduan logam, AlSi merupakan paduan berbasis aluminum dengan penambahan silikon untuk memodifikasi karakteristik deposisi dan lapisan tipisnya. Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi menumbuk permukaan target dan melepaskan atom yang kemudian menempel pada substrat membentuk lapisan tipis.
- 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan metalisasi untuk riset mikroelektronika dan perangkat semikonduktor
- Studi deposisi lapisan tipis untuk material interkoneksi dan kontak
- Lapisan pelindung dan fungsional untuk riset optik dan display
- Eksperimen ilmu material pada lapisan tipis paduan dan proses deposisi
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—