Target sputtering aluminium silikon (aluminum silicon sputtering target, AlSi) dari Nanografi merupakan bahan sumber untuk pembuatan lapisan tipis melalui proses sputtering. Produk ini memiliki kemurnian 99,999%, ukuran 2'', dan ketebalan 0,125''.
Pada deposisi sputter, material dikikis dari target lalu diendapkan ke substrat, misalnya wafer silikon. Metode ini dapat melapisi substrat dengan berbagai bentuk dan ukuran, memberikan hasil yang konsisten, serta dapat ditingkatkan skalanya dari proyek riset dan pengembangan kecil hingga batch produksi dengan area substrat sedang sampai besar.
Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter memang membuat sputtering menjadi proses yang kompleks, tetapi justru memberi keleluasaan besar bagi praktisi untuk mengendalikan pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis komposisi dengan mengikis material target, seperti pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS), termasuk deteksi pengotor berkonsentrasi sangat rendah.
- Kajian pelapukan antariksa (space weathering), yaitu proses sputtering yang mengubah permukaan benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,999% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01AL81
- Material: Aluminium Silikon (AlSi)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01AL81
—
—